K&F Concept Nano-X MRC CPL Apvalus Poliarizacijos Filtras – 52 mm
K&F Concept Nano-X CPL yra apvalus poliarizacijos filtras, skirtas pagerinti nuotraukų kokybę ir sumažinti nepageidaujamus atspindžius. Filtras turi 52 mm sriegi ir yra pagamintas iš aukštos kokybės Japonijos AGC optinio stiklo su pažangia 28 sluoksnių NANOTEC danga.
Pagrindinės savybės
- Skersmuo: 52 mm – suderinamas su daugeliu fotoaparato objektyvų
- Medžiaga: Japonijos AGC optinis stiklas ir lengvas aliuminio lydinys
- Danga: 28 sluoksnių NANOTEC danga, mažinanti atspindžius ir pagerinanti spalvų atkūrimą
- Storis: tik 5.5 mm ultra plonas rėmas – apsaugo nuo vinjetavimo nuotraukose
- Atsparumas įbrėžimams ir hidrofobinės savybės – lengvas valymas ir ilgaamžiškumas
- Atspindžio lygis: 0.2%
Specifikacijos
- Prekės ženklas: K&F Concept
- Modelis: Nano-X CPL – 52 mm
- Medžiagos: Japonijos AGC optinis stiklas, aliuminio lydinys
- Danga: NANOTEC, 28 sluoksniai
- Srieginis skersmuo: 52 mm
- Storis: 5.5 mm
- Atspindėjimo lygis: 0.2%
Priedai
Komplekte yra apsauginis dėklas filtro laikymui ir transportavimui.
Palygink: Kampf gartraukių filtrai