Kampf K&F Concept Nano-C HMC CPL circular polarizing filter - 49 mm kaina

K&F Concept Nano-C HMC CPL Apvalus Poliarizuojantis Filtras – 49 mm

Šis 49 mm apvalus poliarizuojantis filtras padeda pašalinti nepageidaujamus atspindžius ir pagerina nuotraukų kokybę. Filtras yra pagamintas iš japoniško optinio stiklo, padengtas pažangia 18 sluoksnių HMC danga, kuri sumažina atspindžius ir pagerina vaizdo aiškumą.

Pagrindinės savybės

• Pašalina atspindžius ir pagerina nuotraukų kokybę
• 18 sluoksnių HMC (Kietos Multi-Dangos) danga
• Ergonomiška rankenėlė tiksliam poliarizacijos reguliavimui
• Lengvas ir tvirtas aliuminio rėmas, 5 mm storio, kuris užkerta kelią vignetavimui
• Suderinamas su objektyvais, turinčiais 49 mm filtro tvirtinimo sriegį

Specifikacijos

• Filtras: Poliarizuojantis
• Danga: Kieta Multi-Danga (18 sluoksnių)
• Sriegio skersmuo: 49 mm
• Rėmo storis: 5 mm

Komplekte

• K&F Concept Nano-C HMC CPL apvalus poliarizuojantis filtras – 49 mm
• Apsauginis dėklas